「フォトリソグラフィ」研修のご案内 | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2016.09.08

「フォトリソグラフィ」研修のご案内

真空蒸着法・フォトリソグラフィによる微細加工技術を習得する

 

ICなどの半導体デバイスや各種センサなどの電子部品は、薄膜作製やフォトリソグラフィ技術による微細加工技術で作製されています。

本研修は、これから微細加工技術の開発に携わる技術者などの方を対象に、シリコン基板上にアルミニウムによる微細パターンを形成する内容となっています。実際に真空蒸着装置を用いたアルミニウムの薄膜作製を行います。その後、クリーンルームで紫外線露光装置によるレジストパターンの作製、アルミニウム薄膜のエッチングを行い、アルミニウム微細パターンを形成します。また、アルミニウム微細パターンの形状観察等を行います。

*全課程出席者には修了証書を発行致します。

開催要領

■開催日時 1回目 平成28年11月28日(月)9:00~16:30
2回目 平成28年11月29日(火)9:00~16:30
3回目 平成28年11月30日(水)9:00~16:30(満員)
■場所 神奈川県産業技術センター
■募集人員 各回5名(先着順)
(各回5名を超えた場合、又は2名以下の場合は日程を調整させていただきます。)
■参加費 15,000円(当日、現金でお支払いください)
■申込締切 平成28年11月14日(月)(必着)(締切りました)
■申込方法 参加ご希望の方は,こちらから申し込み願います。FAXまたは郵送でのお申し込みは『参加申込書』をダウンロードし,下記宛に送付願います。
■問い合せ・申込先 神奈川県産業技術センター 電子技術部 安井、小沢
e-mail:f-den22m@kanagawa-iri.jp
(電話)046-236-1500 (FAX)046-236-1525
(郵送先)〒243-0435 海老名市下今泉705-1

 

プログラム

9:00~9:30 微細加工技術について(座学)
9:30~12:00 真空蒸着装置を用いたアルミニウム薄膜作製
  (休憩)
13:00~14:00 紫外線露光装置を用いたレジストパターン作製
14:00~15:00 エッチングによるアルミニウム微細パターンの形成
15:00~16:00 アルミニウム微細パターンの観察
16:00~16:30 質疑応答・まとめ等

*研修プログラムの内容と時間割は、一部変わる場合があります。
*講義中・実習中の事故等については当センターでは責任を負いかねますので予めご了承下さい。

 




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